電子級全氟丁基磺酸-4-環己基苯基二苯基硫鎓鹽是一種高純度光敏化合物，廣泛應用于半導體光刻膠材料和微電子制造。該化合物以其優異的化學穩定性和光響應性能滿足先進工藝的嚴苛需求，適用于深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻技術。

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【物理性質】

基本信息

（1）分子式：C₂₈H₂₅F₉O₃S₂

（2）分子量：644.61 g/mol

外觀與純度

（1）外觀：白色至淺黃色結晶粉末。

（2）純度：≥99.5%（電子級）。

物理參數

（1）熔點：150–180°C。

（2）溶解性：易溶于乙腈、丙酮等極性有機溶劑。

（3）熱穩定性：高溫條件下不易分解。

（4）光化學活性：在深紫外光區域具有良好的光敏響應。

【應用領域】

半導體光刻工藝

（1）用作光刻膠中的陽離子光引發劑，增強光刻膠的化學放大效果。

（2）適用于深紫外和極紫外工藝中的高精度光刻應用。

電子封裝材料

（1）在電子封裝中用作抗蝕劑，提高絕緣性能與耐熱性能。

（2）支持高密度集成電路（IC）封裝的加工需求。

功能性涂層開發

（1）用于光學涂層材料，提升耐候性和光學透明度。

（2）在顯示屏行業中用于生產低反射、高透光率的保護涂層。

【總結】

電子級全氟丁基磺酸-4-環己基苯基二苯基硫鎓鹽因其高純度和優異的光化學性能，是現代半導體制造與光刻技術的重要基礎材料，為提升生產效率和精密度提供了保障。