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2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone 1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone 1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonate
CAS107761-81-9
ProductNumYH68663
FormulaC23H16N2O9S
MW496.45

電子級2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯是一種功能性光敏化合物,結(jié)合了多羥基二苯甲酮的紫外吸收性能與疊氮基的光反應(yīng)特性,廣泛應(yīng)用于高端光刻膠和光敏材料中。其穩(wěn)定的分子結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的電子級純度使其成為微電子領(lǐng)域關(guān)鍵的光敏添加劑。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

1)化學(xué)名稱:2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯。

2)分子式:C23H16N2O9S

3)分子量:496.45 g/mol

外觀與溶解性

1)外觀:淺黃色至橙色粉末或結(jié)晶。

2)溶解性:易溶于二甲基亞砜(DMSO)、甲醇等極性有機(jī)溶劑。

熱穩(wěn)定性與純度

1)熱穩(wěn)定性:分解溫度高于180℃。

2)純度:≥99.5%,符合電子級質(zhì)量要求。

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻膠制造

1)作為光敏材料的關(guān)鍵成分,增強(qiáng)光刻膠對紫外光的響應(yīng)速度。

2)支持深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝,滿足高分辨率需求。

電子材料生產(chǎn)

1)應(yīng)用于光刻膠掩膜、光敏涂層等高性能電子材料中。

2)提高微電子元器件的制造精度和光敏性能。

其他光敏應(yīng)用

1)用于高端顯示器和柔性電子產(chǎn)品制造中的光敏技術(shù)。

2)在光化學(xué)反應(yīng)中作為光引發(fā)劑,提高反應(yīng)效率與選擇性。

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