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triphenylsulfonium 3-(methacryloyloxy)propane-1-sulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name triphenylsulfonium 3-(methacryloyloxy)propane-1-sulfonate
CAS201683-79-6
ProductNumYH82049
FormulaC25H26O5S2
MW470.12

三苯基硫鎓 3-(甲基丙烯酰氧基)丙烷-1-磺酸酯是一種高純度的光敏化學品,廣泛應用于電子級光刻膠和光敏樹脂的配方中。該化合物具有良好的光反應性和化學穩定性,可滿足高分辨率光刻工藝對性能和純度的嚴格要求,適用于微電子和半導體制造領域的關鍵工藝環節。

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【物理性質】

基本性質

化學名稱:三苯基硫鎓 3-(甲基丙烯酰氧基)丙烷-1-磺酸酯

分子式:C25H26O5S2

分子量:470.12 g/mol

外觀:白色至淺黃色粉末或晶體

光敏特性

吸收波長范圍:320–400 nm,適用于紫外(UV)曝光工藝。

具有高效的光引發性能,能夠顯著提升光刻膠的感光效率。

穩定性與儲存條件

在干燥、避光環境中具有良好的化學穩定性。

建議儲存溫度:2–8°C,避免高溫和濕度。

【應用領域】

光刻膠材料

用作紫外光刻膠的光引發劑,提高光刻圖形的分辨率和清晰度。

在亞微米和納米級集成電路制造中應用廣泛。

光敏樹脂

用于生產高性能光敏樹脂,應用于涂料和膠黏劑等領域。

在紫外固化涂層技術中起到關鍵作用,確保高效固化和低殘留。

微電子和半導體制造

支持微機電系統(MEMS)、光電子器件和先進顯示面板的制造。

應用于先進封裝工藝,為提升集成電路性能提供支持。

【總結】

三苯基硫鎓 3-(甲基丙烯酰氧基)丙烷-1-磺酸酯以其高純度、優異的光敏特性和穩定性,成為高端光刻膠和光敏材料開發中的重要組成部分,為微電子和半導體行業的技術突破提供了重要助力。


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