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2,3,4-Trihydroxybenzophenone naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name 2,3,4-Trihydroxybenzophenone naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonate
CAS68510-93-0
ProductNumYH68662
FormulaC23H16N2O8S
MW480.45

電子級2,3,4-三羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯是一種高效光敏化合物,專為先進光刻膠配方設(shè)計。其獨特的分子結(jié)構(gòu)結(jié)合了二苯甲酮的光化學(xué)活性與疊氮基的光響應(yīng)特性,在紫外光照射下能夠生成活性種,廣泛應(yīng)用于高分辨率光刻工藝中,滿足半導(dǎo)體制造領(lǐng)域?qū)殘D案的需求。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

化學(xué)名稱:2,3,4-三羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯

分子式:C23H16N2O8S

分子量:480.45 g/mol

外觀與溶解性

外觀:黃色至橙色粉末

溶解性:易溶于甲醇、乙腈等極性有機溶劑

熱穩(wěn)定性與儲存條件

熔點:約190℃

儲存條件:避光密封儲存,建議儲存溫度為0-10℃,防止氧化和濕氣影響

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻膠配方

作為光敏劑,顯著提升光刻膠的曝光靈敏度和圖案分辨率。

1)適配紫外(UV)和深紫外(DUV)光刻工藝。

2)增強光刻膠顯影過程中圖案邊緣銳度和清晰度。

半導(dǎo)體制造

廣泛應(yīng)用于集成電路與微電子加工中的圖案轉(zhuǎn)移工藝。

1)支持先進制程的高精度圖形刻蝕,提升線寬控制能力。

2)優(yōu)化晶圓加工良率,降低缺陷率。

光敏材料研發(fā)

用于開發(fā)新型光敏材料,滿足顯示面板、傳感器等高端領(lǐng)域需求。

1)提升材料的光穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。

2)增強材料在復(fù)雜環(huán)境下的光響應(yīng)性能,適配多種先進光學(xué)應(yīng)用場景。


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